光刻機采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。那么光刻機性能指標是什么呢？

1、光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產(chǎn)效率等。

2、分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。

3、對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。

4、曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。

5、曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域，光源有汞燈，準分子激光器等。

以上就是給各位帶來的關于光刻機性能指標是什么的全部內(nèi)容了。